一、設備原理與功能特點
1.1 場發射掃描電子顯微鏡原(yuán)理
JSM-7610F 屬於 場發射掃描電子顯微鏡(FE-SEM),通過場發射電子槍產生(shēng)高(gāo)亮度電子束,聚焦到樣品表麵並逐點掃描,再由二(èr)次電子、背散射電(diàn)子(zǐ)等探測器收集信號,形成圖像。與傳統鎢絲燈絲 SEM 相比,FEG 具有更高亮度和相幹性,從而在 亞納米級分(fèn)辨(biàn)率下依然能夠獲得(dé)清晰圖像。
其核心組(zǔ)成包括:

電子槍(In-lens Schottky FEG):壽命長,亮度高,穩定性強。
半浸入式物鏡(Semi-in Lens Objective Lens):降低像差,提升分辨率。
Aperture Angle Control Lens (ACL):保(bǎo)持束(shù)斑直徑小,即使(shǐ)在大電流下也能保證高分(fèn)辨率。
探測係(xì)統:包括二(èr)次電子探測器(SEI)、低角度背(bèi)散射探測器(LABE)、STEM 探測器等,支持形貌觀察、成分分析和結(jié)構分析。
真空係統:采用分子泵+機械泵,維持樣品腔高真空。
1.2 主要功能與性能指標
根據 JEOL 產(chǎn)品手冊,JSM-7610F 具備以下特點:
分辨率:1.0 nm (15 kV),1.5 nm (1 kV, GB 模(mó)式);升級版(bǎn) JSM-7610FPlus 在 15 kV 下可(kě)達 0.8 nm。
加速(sù)電壓範(fàn)圍:0.1 – 30 kV,可靈活選擇。
放大倍率:×25 – ×1,000,000(顯示倍率最高可達(dá) 3,000,000)。
Gentle Beam 模(mó)式:通過對樣品施加負偏壓,將入射電子減速,有效觀察非導體和低電(diàn)壓下的表麵結構(gòu)。
分析功能:可搭載 EDS、WDS、EBSD、CL 等附件,支持高空間分辨(biàn)率成(chéng)分分析。
樣品台:五軸電動全(quán)偏心台,支持 ±70° 傾斜,360° 旋轉。
1.3 應用領域

二、安裝、校準與調(diào)試
2.1 安裝要求
根據 JEOL 官方安裝條件:
電源:單相 200 V,50/60 Hz,功率需求約 4 kVA。
環境:溫度 15–25 ℃,濕度 ≤ 60%。
防幹擾:交流磁場 ≤ 0.3 μT,振動 ≤ 3 μm (≥ 5 Hz),噪聲 ≤ 70 dB。
空間:房間尺寸 ≥ 3 m × 2.8 m,高度 ≥ 2.3 m。
安裝完(wán)成後需(xū)進行(háng):
2.2 校準內容
電子光學校準:包括束流對準、像散(sàn)校(xiào)正、電子槍中心調整。
工作距離 (WD) 校準:確保(bǎo) Z 軸位移與 WD 讀數一致。
探測器校準:校正 SE/BSE 信(xìn)號增益、能譜校正。
樣(yàng)品台偏心校準:保證旋轉時樣品保(bǎo)持在焦(jiāo)點範圍(wéi)。
三(sān)、使用操作流程
根據操作規程,JSM-7610F 使用(yòng)流程主要分為 樣品裝載、成像調節、圖像采集、樣品卸載 四個環節:
3.1 樣品裝載
確認樣品腔處於 Exchange Position,Loadlock 真空正常。
打開 Loadlock,放入樣品,注意樣品高度需與載物台齊平或測量 offset。
關閉 Loadlock 並(bìng)抽(chōu)真空,等待(dài)壓力 < 10⁻³ Pa。
使(shǐ)用傳送杆將樣品(pǐn)送入(rù)腔室,鎖定在台麵。
3.2 成像準備
打開電子槍,設置(zhì)合適加(jiā)速電壓(常用 5–15 kV)。
選擇探測器(SEI 常用於形貌,BSE 用於成分對(duì)比)。
調(diào)整工作距離(常用 8 mm,EDS 建議 10–15 mm)。
進入低倍模(mó)式,找到感興(xìng)趣區域。
3.3 成像(xiàng)與調節
設置束流(liú)強度(dù),進行電子束(shù)對中與(yǔ)像散校正。
調(diào)整焦距與亮度對比度。
根據需求切換至高倍模式,獲(huò)取高分辨率圖像。
若需分析,打(dǎ)開(kāi) EDS/WDS 采集信號。
3.4 圖像采集與保存
選擇掃描(miáo)模式(快速預覽(lǎn) Quick-1/2 或(huò)高(gāo)質量 Fine-1/2)。
凍(dòng)結圖像並保(bǎo)存為 JPEG/TIFF/BMP。
可(kě)在圖(tú)像文件右鍵恢複當時的成像條件。
3.5 樣品卸載
關閉電子槍(qiāng),樣品台回到 Exchange Position。
打開 Loadlock,取出樣品。
恢複係統至待機狀態。

四、常見故障與解決方法
4.1 高壓錯誤 (High Voltage Error)
4.2 真空錯誤 (Vacuum Error)
原因(yīn):腔體泄漏、泵異(yì)常。
解決:檢查 O 型圈、機械泵油、分子泵狀態。
4.3 圖(tú)像漂移 / 噪聲
原因(yīn):電磁幹擾、樣品帶電、接地不良。
解決:改善接地,對樣品噴金,提高束流穩定性。
4.4 Stage Initialize Error(無法回原點(diǎn)案(àn)例)
這是客戶常遇到的問題:樣品台 XY 運動,但無(wú)法歸零(líng)。
五、總結
JSM-7610F 係列(liè)作為(wéi) JEOL 的高端場(chǎng)發射掃描電鏡,憑借 亞(yà)納米級分辨率、寬(kuān)範圍加速電壓、Gentle Beam 模式(shì)與強大分析擴展能力,已成為材(cái)料、半導(dǎo)體和納米研究的重要工具。
掌握其 安裝條件、校準(zhǔn)流程、標準操作步驟,並對(duì)常見故障(zhàng)(如真空錯誤、高壓錯誤、stage initialize error)有針對性處理方(fāng)案,對於(yú)保障設備(bèi)長期穩定(dìng)運行至關重要。
用戶(hù)手冊不僅提供了詳細的操作說明,更是 設備安全運行與高效利用的核心指南。熟(shú)悉手冊、結合實踐經驗,才能(néng)真正發揮 JSM-7610F 的性能優勢,為科研與工業應用提供可靠支持。