24小時服(fú)務熱線:17328677649
工控天地
服務熱線 17328677649

機電文章

當前位置:首頁 工控天地(dì) 機電文章
高精度旋塗儀設計方案:用於微柱(zhù)陣列PDMS芯片(piàn)柱頂納米級PLGA膜(mó)沉(chén)積的研究平台
發布時間:2025-07-26 11:32:31 | 瀏覽量:217

一、研究背(bèi)景與應(yīng)用需(xū)求

在細胞工程、生物材料(liào)、生物(wù)藥物釋(shì)放係統(tǒng)等前沿交叉學科領(lǐng)域,高通量微結(jié)構芯片平台日益成為研究核心。尤其以(yǐ)PDMS微柱陣列芯片為載體,搭(dā)配可控生物降解性薄(báo)膜(如(rú)PLGA)的複合結構,正廣泛應(yīng)用(yòng)於如下方向(xiàng):

  1. 單細胞藥物遞送與敏感性評估平台;

  2. 生物材料(liào)與細胞界麵作用研(yán)究(粘附、遷移、分化);

  3. 多因子高通量篩(shāi)選與(yǔ)仿生微環境構(gòu)建;

  4. 納米尺度藥物釋放行為精準調控。

這些研(yán)究往往要求在(zài)芯片表麵、特別是柱體頂部構建高度(dù)均勻、厚度在100–300 nm之間的(de)功能膜層,尤其以PLGA(聚乳酸-羥基乙酸共聚(jù)物)為典型代表材料。其生物可降解、可調(diào)控釋放特性,使其成為理想的藥物載(zǎi)體材料(liào)。

然而,傳統旋塗(tú)儀的平麵設計和吸附機(jī)製難以在微(wēi)柱陣列的非(fēi)平麵結構上實現高均勻性(xìng)的納米級沉積,特別是在柱頂定向塗覆時,更需突破常規工藝的局限。

因此,設計一款專用於“微(wēi)柱陣列PDMS芯片柱頂(dǐng)納米級PLGA膜沉(chén)積”的旋塗儀,具(jù)有重要的科研與工程意義。

1.jpg


二(èr)、旋塗膜沉積原理簡述

旋塗(Spin Coating)是一(yī)種廣泛應用於微電子、光學與(yǔ)生物材料領域的薄膜製備技術。其基本原理如下:

  1. 在基片上滴加溶液;

  2. 通過高速旋轉產生離心力,將溶(róng)液均(jun1)勻展布於表麵;

  3. 隨(suí)著旋轉與溶劑蒸發,薄膜在數秒至一分鍾內快速(sù)成型。

在簡化模型(Meyerhofer模型)中,膜厚 h 主(zhǔ)要與以下(xià)因素(sù)相關(guān):

h ∝ (c * μ) / ω^{1/2}

其中:

  • c 為溶液(yè)濃度(dù);

  • μ 為溶液粘度(dù);

  • ω 為轉速(rpm);

調控這三項參數即可實現在幾十至幾百納米的膜厚精度。

對於柱頂區域的定向沉積,還需(xū)結合特殊夾具、非真空吸附機製、程序分段旋轉控製等先進設計。


三、設備功能需求分析

為滿足上述(shù)應用目標,旋塗儀需(xū)具備以下功能模塊:

1. 微結構適應(yīng)性平台設(shè)計

  • 基底(dǐ)尺寸支持:55 mm × 55 mm PDMS芯片;

  • 支持非(fēi)真空吸附,避免破壞微結構柱(zhù)體(tǐ);

  • 可兼容(róng)曲麵/微凹陷(xiàn)基底,提升柱(zhù)頂旋塗均勻(yún)性。

2. 精確旋轉控製係統

  • 轉速範圍:100–10,000 rpm;

  • 最小分(fèn)辨率:1 rpm;

  • 加速度可控範圍:100–10,000 rpm/s;

  • 可編程多段速度控製(不(bú)少於10段(duàn)/程(chéng)序);

  • 每(měi)段支持設置:轉速、時間、加速度。

3. 納米膜厚控製模(mó)塊(kuài)

  • 滴液自動化控製(精密注(zhù)射泵配合):

    • 微(wēi)量注液:0.1–10 μL 級別;

    • 精度 ±0.01 μL;

  • 可選配溫控蓋(提(tí)升揮發均勻(yún)性);

  • 環境密封艙(可置入手套箱);

  • 可外接氮氣或空氣流速調(diào)控模塊。

4. 編程與反(fǎn)饋係統

  • LCD 彩色觸控界麵,用戶自定義程序組;

  • 實時顯示轉速、溫度、程序步數等;

  • 可保存程序參數組不少於20組;

  • 支持(chí)USB導出塗布數據日誌;

  • 可聯機外部傳感器(如膜厚儀、紅外監測)。


2.jpg

四、創新設計亮點

  1. 非真空夾具係統(tǒng)

    • 替代傳統真空吸附,避免PDMS柱塌陷;

    • 采用PTFE定位邊緣卡槽,保證芯片中心不被遮擋(dǎng);

  2. 柱頂(dǐng)對準旋轉優化路徑

    • 多段程序設定中引入緩加速-恒轉速-緩(huǎn)減速模型;

    • 第一段(duàn)低速初展(zhǎn)液(300 rpm);

    • 第二段高速展平(2000–3000 rpm);

    • 第三(sān)段中(zhōng)速(sù)穩定(dìng)蒸發(800–1200 rpm)以確保柱頂(dǐng)薄膜均勻(yún)。

  3. 微液量滴(dī)加係統

    • 使用定製微量注射頭,將PLGA溶液精準滴於中心區域,控製展開速率(lǜ)與膜厚初始條件;

    • 可搭配激光輔助定位係統;

  4. 防(fáng)邊緣堆積塗膜功能

    • 調整液滴位置及延遲(chí)轉速起始時間,避免重力流(liú)動集中(zhōng)在邊(biān)緣造成(chéng)厚膜(mó)。

  5. 開放式開發接口

    • 兼容MATLAB / Python SDK 接口;

    • 適配(pèi)生物實驗自動化平台(tái)或AI反饋學習係統(tǒng)。


五、使用流程示意

  1. 在PDMS芯片(piàn)中心(xīn)微量(liàng)滴加PLGA溶液(濃度2–5 wt%,以DCM或氯仿為溶劑);

  2. 啟動旋塗程(chéng)序:

    • Step 1:預展階段(300 rpm / 10 s);

    • Step 2:主(zhǔ)旋階段(2000 rpm / 30 s);

    • Step 3:幹燥階段(1000 rpm / 20 s);

  3. 封蓋或引導(dǎo)氮氣蒸(zhēng)發(fā)輔助;

  4. 成膜(mó)結束後進行AFM、橢偏等膜厚檢測(cè)。


六、技術實(shí)現路徑與材料(liào)推薦

  • 控製係統(tǒng):STM32/ESP32微控芯片 + 旋(xuán)轉編碼器 + 高(gāo)精度(dù)閉環電機;

  • 注液係統:精密注射泵(微步進電機驅動)+ 替換式針頭結構;

  • 加熱罩:PTFE蓋體 + PTC膜加熱片(piàn) + PID溫控(kòng);

  • 架構與外殼(ké):鋁合金CNC加工框架 + 亞克力透明防護(hù)罩;

  • 芯片夾具:激光雕刻PTFE槽口,兼容不同厚度PDMS。


七、市場(chǎng)對標與研發展望

對標設備如:

  • Ossila Advanced Spin Coater(英國)

  • Laurell WS-650 係列(美國)

  • MTI VTC-100PA(中國)

本項目定位於(yú)科研級 + 柱頂微結構(gòu)專用功能補充,填補國產旋塗儀在微柱(zhù)陣列和細胞載體平台的塗膜適應性空白。

未(wèi)來還可加入:

  • 多液自動滴加模塊(可切換多種藥物溶液);

  • 自動識別芯片排(pái)布(計算機視覺輔助(zhù)定位塗膜區域);

  • AI膜厚控製閉環優化(huà)係統;


八、結語

本設計方案聚焦於“微(wēi)柱陣列PDMS芯片 + 柱(zhù)頂定向PLGA納米薄膜沉積(jī)”的核心技術難題,融合(hé)旋塗原理、非平麵適(shì)配、非真空設計(jì)與微液量(liàng)控製技術,形成一整(zhěng)套麵向生物(wù)材料與(yǔ)高通量藥物篩選平台的專(zhuān)用旋塗解決方案。其科研價值、產業轉化潛力和平台兼容性在多學科交叉領域均具有廣泛的(de)應用前景。


 
 
上(shàng)一篇:二手 KEB COMBIVERT F5 變頻器 22F5A1R-YVC2,80kVA,三相製,55kW電(diàn)機驅動,原(yuán)裝拆機
下一篇:西(xī)門子 SIWAREX WP231 7MH4960-2AA01 稱重(chóng)模塊,適用於 S7-1200 PLC,原裝正品

廣東91视频网址入口機電科技有限公司 保留所(suǒ)有版(bǎn)權粵ICP備10022083號


91视频网址入口_91免费视频网站_www.91视频.com_91免费观看网站入口